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膜厚仪的光学薄膜测厚方式
点击次数:1134 发布时间:2016-11-30
   膜厚仪厂家解释当薄膜厚度和光学常数在测量系统范围内时,测量系统能又快又轻松的测量。在用来测量薄膜厚度时,有几种常见的对膜厚仪的误解。比如:
  1.它只能测量薄膜厚度,且需要预先知道光学常数(折射率和消光系数);
  2.和椭偏仪相比它的精度较低;
  3.只有一到两个厚度可同时测量。
  这些误解反映了膜厚仪这种技术没有被充分利用。其使用方法和数据分析有待进一步的深入。
  椭偏仪是间接的测量方法,需要建立一个模型,通过调整物理参数(厚度和光学常数),使得模型与测量得到的反射率曲线达到zui佳拟合度,以此来反推计算薄膜厚度和光学常数。
  但是膜厚仪在下列情况下具有明显的优势:
  1.度要求较高的厚度测量(除很薄的薄膜外)精度<0.01纳米;
  2.测量较厚的薄膜(>10微米)。精度达到500微米;
  3.更高的测量速度<1毫秒;
  4.测量表面粗糙度。
  这些种技术都可以测量复杂的多层薄膜,计算其厚度和材料的n、k值。
  通常人们都使用膜厚仪认为它适合简单的厚度测量:一至二层薄膜。通常,测量多晶硅和氮化硅是两个主要应用,导致了椭偏仪和膜厚仪在半导体工业领域里有着广泛的应用。以传统的使用方法,显然不适合这些应用。因此,说明膜厚仪的应用是非常有意义的。事实上如果运用得当,测量它们非常成功。
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